仪器名称：高真空磁控与离子束溅射镀膜系统

英文名称：High vacuum magnetron and ion beam sputtering coating system

所属单位：电子科技大学

原值：69.800000万元

产地国别：中国

启用日期：2005-12-15 00:00:00

主要技术指标：离子束室安装Φ3mm kaufman型样品清洗和辅助沉积离子枪和Φ3mm kaufman型溅射离子枪各一台；四工位转靶一支；样品转盘上有两个样品台，一个水冷结构，一个加热结构。

主要功能：磁控室可以进行直流直靶位溅射、射频直靶位溅射，直流斜靶位溅射和直流三靶位共溅射镀膜

操作流程/视频：

样品前处理注意事项：

预约信息：状态（正常）

主要学科领域：材料科学,其他

运行状态：正常

参考收费标准：按小时收费 校外：400/小时; 校内：400/小时

安放地址：四川-成都-锦江区四川省成都市成华区电子科技大学微固楼