仪器名称：双室磁控溅射沉积系统

英文名称：

所属单位：电子科技大学

原值：60.000000万元

产地国别：中国

启用日期：2013-05-21 00:00:00

主要技术指标：JGP-560C四靶倾斜长距共溅射，真空度9.0X10-6 Pa

主要功能：可广泛应用于半导体、LED和光伏等行业，主要用于各种金属、半导体及介质材料的薄膜制备

操作流程/视频：

样品前处理注意事项：

预约信息：状态（正常）

主要学科领域：电子与通信技术

运行状态：正常

参考收费标准：200校内/小时|300校外/小时

安放地址：四川-成都-锦江区四川省成都市市辖区西源大道2006号电子科技大学（清水河校区）研究院大楼107