氧化扩散炉

仪器型号:HTOS-8/W-QVH

参考收费标准:面议

仪器原值: 62.000000万元

学科领域:材料科学,电子与通信技术

服务内容: 半导体材料工艺制备

启用时间: 2024-10-12 10:00:00

联系人:秦海森

所在单位: 成都工业学院

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成都工业学院

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仪器名称:氧化扩散炉

英文名称:Oxidation and Diffusion Furnace

所属单位:成都工业学院

原值:62.000000万元

产地国别:中国

启用日期:2024-10-12 10:00:00

主要技术指标:工艺方式:全自动控制 工艺布局:上管:干氧氧化+湿氧氧化+退火,下管:硼扩(固态源) 设计温度:1300℃ 工作温度:600-1200℃ 晶圆规格:8英寸(兼容6英寸) 恒温区长度:≥300mm 温度控制:多通道控温仪,加热器三段高精度控温 热电偶:采用Spike TC控温,S型热偶(三点控温、单点保护),Profile TC实时监测。

主要功能:半导体材料工艺处理设备。

操作流程/视频:

样品前处理注意事项:

预约信息:状态(正常)

主要学科领域:材料科学,电子与通信技术

运行状态:正常

参考收费标准:面议

安放地址:四川-成都-郫县成都市郫都区中信大道二段1号

服务内容:

半导体材料工艺制备

典型成果:

开放规定:

半导体材料专业人员工作日申请,联系确定相关事宜。

收费标准:

面议

提前预约天数:0天

取消提前时间:0天

单次最小预约时间:0天

单次最大预约时间:0天

单周最大预约时间:0天

两次预约最小间隔:0天

是否需要培训/授权:否

是否通过培训才能预约:否

周开放时间:星期一,星期二,星期三,星期四,星期五

日开放时间:2025-06-30 17:00:01 ~ 2025-06-30 17:00:01

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