仪器型号:HTOS-8/W-QVH
参考收费标准:面议
仪器原值: 62.000000万元
学科领域:材料科学,电子与通信技术
服务内容: 半导体材料工艺制备
启用时间: 2024-10-12 10:00:00
联系人:秦海森
所在单位: 成都工业学院
仪器名称:氧化扩散炉
英文名称:Oxidation and Diffusion Furnace
所属单位:成都工业学院
原值:62.000000万元
产地国别:中国
启用日期:2024-10-12 10:00:00
主要技术指标:工艺方式:全自动控制 工艺布局:上管:干氧氧化+湿氧氧化+退火,下管:硼扩(固态源) 设计温度:1300℃ 工作温度:600-1200℃ 晶圆规格:8英寸(兼容6英寸) 恒温区长度:≥300mm 温度控制:多通道控温仪,加热器三段高精度控温 热电偶:采用Spike TC控温,S型热偶(三点控温、单点保护),Profile TC实时监测。
主要功能:半导体材料工艺处理设备。
操作流程/视频:
样品前处理注意事项:
预约信息:状态(正常)
主要学科领域:材料科学,电子与通信技术
运行状态:正常
参考收费标准:面议
安放地址:四川-成都-郫县成都市郫都区中信大道二段1号
服务内容:
半导体材料工艺制备
典型成果:
开放规定:
半导体材料专业人员工作日申请,联系确定相关事宜。
收费标准:
面议
提前预约天数:0天
取消提前时间:0天
单次最小预约时间:0天
单次最大预约时间:0天
单周最大预约时间:0天
两次预约最小间隔:0天
是否需要培训/授权:否
是否通过培训才能预约:否
周开放时间:星期一,星期二,星期三,星期四,星期五
日开放时间:2025-06-30 17:00:01 ~ 2025-06-30 17:00:01
